충남 아산에 위치한 순천향대학교가 차세대 전자소자 제조의 핵심 기술을 산업계에 이전하며 국내 반도체·디스플레이 경쟁력 강화에 속도를 내고 있다. 이번 기술이전은 단순한 연구 성과 공유를 넘어, 실제 산업 현장에서 활용 가능한 수준으로 상용화 기반을 마련했다는 점에서 의미가 크다.
순천향대학교 산학협력단은 지난 12월 1일 진공기술 전문기업 ㈜아스트로텍과 ‘In-situ 진공장비 선택성장 공정 기술’에 대한 기술이전 협약을 체결했다. 아스트로텍은 정액 기술료 1억 원을 대학에 제공하며, 이를 통해 산학협력의 실질적 성과가 가시화됐다.
이 기술은 원자층증착(ALD) 방식으로 특정 영역에만 박막을 정밀하게 성장시키는 공정이다. 초미세 패터닝이 필수적인 차세대 반도체 및 디스플레이 소자 제조에 핵심적으로 활용될 수 있으며, 기존 리소그래피 공정 대비 비용 절감과 공정 단순화 효과가 기대된다. 특히 다양한 기판의 표면 상태를 정교하게 제어해 선택비(Selectivity)를 크게 향상시킨 점이 산업적 가치로 평가된다.
이번 기술은 박환열 순천향대 디스플레이신소재공학과 교수가 개발한 특허와 연구성과를 기반으로 한다. 산학협력단과 RISE 사업단은 실용화 검증(PoC), 국가기술거래플랫폼 연계 시험·인증, 비즈니스 모델 설계, 상용화 로드맵 제공 등 단계별 지원을 통해 산업 적용 기반을 마련했다. 박 교수는 “초박막 선택적 증착 공정은 전자소자 제조 전반에 폭넓게 적용될 수 있으며, 초미세 패터닝 구현을 통해 국내 반도체·디스플레이 산업 경쟁력 강화에 기여할 것”이라고 강조했다.
기술을 이전받은 아스트로텍은 2022년 설립된 진공기술 전문기업으로, 초고진공 장비 및 부품 개발을 기반으로 국가 연구시설과 주요 산업 현장에서 기술 역량을 축적해왔다. 이번 협약을 계기로 차세대 전자소자 제조 공정 분야로 사업을 확장하며 글로벌 경쟁력 확보에 나설 계획이다.